В Нижнем Новгороде запатентовали очистку нанопорошка для микроэлектроники

В Нижегородском государственном университете имени Н. И. Лобачевского сообщили, что ученые вуза разработали и запатентовали технологию глубокой очистки нанопорошка диоксида кремния (SiO₂). Он применяется в микроэлектронике. Метод позволяет контролировать размер и форму частиц, добиваться их однородности, стабильности и низкого содержания примесей, пишет ТАСС.

Руководитель исследования, кандидат химических наук, научный сотрудник научно-исследовательской лаборатории инженерной химии Ксения Отвагина, материал предназначен, в частности, для химико-механической полировки полупроводниковых пластин и других процессов, требующих высокочистых абразивных наноматериалов.

В вузе отметили, что ученые также разработали технологическую линию и регламент производства, на основе которых получили устойчивую суспензию. Сейчас ее направили промышленному партнеру для апробации.

Рразработка призвана помочь создать отечественную альтернативу зарубежным материалам для микроэлектроники. Характеристики наночастиц влияют на качество обработки полупроводниковых пластин, а значит, и на надежность будущих электронных устройств.